有外媒报道称，ASML公司目前正积极投资研发新一代EUV光刻机，和往代的相比，新款EUV光刻机最大的变化就是高数值孔径透镜，通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%，达到业界对几何式芯片微缩的要求。...
